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(검색결과 약 40개)
증착결과 보고서
리포트 > 공학/기술    4페이지 
1.실험 방법 ① 모든 밸브가 잠겨있는지 확인한다. ②증착시키려는 소스를 철판 위에 작은 시약 스푼으로 한 스푼 올려놓는다. ③ 셔터를 닫은 상태에서 슬라이드를 끼운다. ④ Rotary Pump Switch를 ON으로 한다. ⑤ ..
화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착
리포트 > 공학/기술    5페이지 
화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착 Ⅰ 실험목표 진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다. Ⅱ 실험 이론 ① 압력 단위 환산 1atm = 101325Pa = 1..
실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비]
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실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비] 1. 실험 목적 진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다. 2. 실험 과정 시료 ..
[신소재공학] Sputtering을 이용한 Ti 증착(요소설계) - 반도체 형성 원리에 대해
리포트 > 공학/기술    31페이지 
Sputtering을 이용한 Ti 증착 목차 실험 목적 실험 이론 실험 방법 결과 및 토의 1. 실험 목적 Working pressure를 변화 시킬 때 두께와 저항의 변화를 그래프를 이용해 분석하여 Working pressure와 두께, 저..
반도체공학 실험 - Metal Deposition
리포트 > 공학/기술    4페이지 
실험 4 : Metal Deposition 1. 실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Dry etching 을 실시한 후 Si기판 위에 금속을 증착시키는 공정인 Metal deposition 을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시..
[소재공정실험] 박막공학 - PVD 와 CVD에 관해
리포트 > 공학/기술    13페이지 
소재공정실험 구 성 2/16 Thin Film Application Thin Film 부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다. 막박 Physical Vapor Deposition 진공 중에서 금속을 기화시켜 기판에 증착. vapo..
반도체 - 반도체 전前공정 및 CVD 공정
리포트 > 공학/기술    7페이지 
반도체 전前공정 및 CVD 공정 반도체 전前공정요약 웨이퍼제조공정 12 웨이퍼8대가공공정 1.산화 2.감광액 5.식각 3.노광 6.이온주입 4.현상 8.금속배선 7.화학기상증착 CVD ....
박막증착에 대해
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실험보고서 - 발광박막제조 및 PL분광법을 이용한 특성 분석 결과 보고서
리포트 > 자연과학    3페이지 
1. 실험방법 ◉ 기판 세정 ① 준비된 glass를 2×2 cm2 크기로 자른 뒤, boat에 담는다. ② TCE, Acetone, Methanol, DI Water 순으로 각각 10분씩 초음파 세척을 한다. ③ 세척 후 N2 기체로 blow drying 한다. ④..
SDI 면접준비
서식 > 자기소개서    3페이지 
PT ( 40분간 공부시간 주고 20분동안 PT하는데 5분정도 설명하고 15분은 질의응답 ) ☻ TFT소자 공정과정이랑 제한조건 주어지고 과제를 해결. 공정과정 1. 유리기판에 반도체막 증착 2. TFT구조 만듬 3. 그 위에..
TFT-LCD 공정의 작업환경
리포트 > 공학/기술    50페이지 
Hazard of TFT-LCDManufacturing Process 2004. 4. 26 한 승 용 Contents TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD) LC(Liquid Crystal) Manufacturing Process TFT Process Cell Process Module Process Hazards MSDS ..
표면공학 [PVD]에 대해서
리포트 > 공학/기술    23페이지 
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된..
금속과 표면공학 - PVD에 대해서
리포트 > 공학/기술    23페이지 
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된..
실험1 R, C, L 값의 측정
리포트 > 공학/기술    9페이지 
실험1 R, C, L 값의 측정 1. 실험목적 1) 멀티미터를 이용하여 저항을 측정하는 방법과 저항에 표시된 색 코드를 읽는 방법을 익 힌다. 2) LCR 미터를 이용하여 커패시턴스와 인덕턴스의 크기를 측정하는 방법..
재료공학 기초 실험 - 세라믹 수축률 측정
리포트 > 자연과학    4페이지 
1. 실험 목적 세라믹 재료의 소결 전, 후의 dimension을 측정함으로써, 소결 거동을 살펴보고 세라믹 부품 또는 제품을 제조할 경우 최종 제품의 크기를 결정할 수 있도록 한다. 2. 이론적 배경 1) 소결 (Sint..
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