1. 실험 목적
진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다.
2. 실험 과정
시료 및 장치 준비 과정(모든 세척과정에서는 반드시 일회용 비닐 장갑을 낀다.)
1) 기판 준비
① ultrasonic에 기판을 10분간 돌리고 20분간 150℃로 Dry Oven에 말린다.
② heating boat를 2개 준비하여 각각의 질량을 측정한다.
③ 각각의 heating boat에 ALQ3를 담고 질량을 측정한 뒤 chamber내에 고정시킨다.
④ 기판에 증착 유리판을 고정 시킨 후 기판을 고정 하고 chamber를 밀폐 한다.
2) 증착 과정
① 쿨러을 켠다.
② R.P.Leak 밸브 및 3way 벨브, Air Leak, Main 밸브가 잠겼는지 확인한다.
③ 메인 스위치를 켜고 로터리 펌프를 켠다.
④ Pirani gauge를 확인한 후 10-2Pa까지 압력이 떨어지면 Rough way 쪽으로 밸브
를 연다.
⑤ Chamber내의 압력이 충분히 떨어진 후 Fore way쪽으로 밸브를 연다.
⑥ 오일확산펌프의 압력이 10-2Pa까지 떨어지면 Rough way쪽으로 한번 더 돌려서
메인 밸브 아래와 위의 압력을 맞춘 다음 다시 Fore way로 밸브를 돌리고 오일
확산 펌프를 켠다.
⑦ 오일 확산 펌프가 충분히 작동한다고 생각되면 Main 밸브를 열고 챔버 내의 압
력을 4X10-3Pa까지 떨어뜨린다.
....
화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착 화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착
Ⅰ 실험목표
진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다.
Ⅱ 실험 이론
① 압력 단위 환산
1atm = 101325Pa = 1..
반도체공학 실험 - Metal Deposition 실험 4 : Metal Deposition
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Dry etching 을 실시한 후 Si기판 위에 금속을
증착시키는 공정인 Metal deposition 을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시..
OLED의 이해 및 제조공정 분석 디스플레이 공학 복습OLED
OLED의 전반적인 이해
EL (Electroluminescence)
형광체에 전류를 흘려주었을 시에 발광하는재료의 전기 발광 현상
발광 층에서 전자와 정공은 재결합에 의해 여기자(Exciton)가 생성..
OLED의 이해 및 제조공정 분석 디스플레이 공학 복습OLED
OLED의 전반적인 이해
EL (Electroluminescence)
형광체에 전류를 흘려주었을 시에 발광하는재료의 전기 발광 현상
발광 층에서 전자와 정공은 재결합에 의해 여기자(Exciton)가 생성..
[소재공정실험] 박막공학 - PVD 와 CVD에 관해 소재공정실험
구 성
2/16
Thin Film Application
Thin Film
부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다.
막박
Physical Vapor Deposition
진공 중에서 금속을 기화시켜 기판에 증착.
vapo..
TFT-LCD 공정의 작업환경 Hazard of TFT-LCDManufacturing Process
2004. 4. 26
한 승 용
Contents
TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
LC(Liquid Crystal)
Manufacturing Process
TFT Process
Cell Process
Module Process
Hazards
MSDS ..
물리응용실험 - 압력에 따른 끓는 점의 변화 실험 1. 실험 목적
압력이 변화함에 따라 물의 끓는 점이 변하는 것을 관찰하기 위한 실험
2. 기초 이론
산 정상에서 밥을 하면 밥이 설익습니다.평지와 산꼭대기의 기압이 서로 다르기 때문이다. 우리는 막연히 물..
압력측정 계측 및 신호처리
- 압력측정 -
1. 실험제목
압력측정
2. 실험목적
본 실험에서는 부르돈관 압력계(Bourdon gauge)와 스트레인 게이지형 압력변환기(pressure transducer)의 작동 원리를 이해하여 냉매 113..
열변형이없는표면개질
목 차
1. 제목 : 열변형이 없는 표면개질
2. 서론 표면개질
3. 본론 . PVD
. 플라즈마 CVD
. 질화
. 쇼트 피닝
4. 결론 전망과 의견
5. 참고문헌
6. 발표시 질문의 보충설명
7. 사본
열변형이 없는 ..