박막증착에 대해
박막증착에 대해
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TFT-LCD 공정의 작업환경
Hazard of TFT-LCDManufacturing Process 2004. 4. 26 한 승 용 Contents TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD) LC(Liquid Crystal) Manufacturing Process TFT Process Cell Process Module Process Hazards MSDS .. -
thin film[박막]에 대한 정의와 제조방법 정리
1. What is a thin film thin film(박막)이란 박막은 나노미터에서 마이크로미터 두께까지의 범위를 포함하는 얇은 물질 층이라고 할 수 있다. 전자기적 반도체 장치와 광학적 코팅은 박막기술의 주된 적용 범위.. -
실험보고서 - 발광박막제조 및 PL분광법을 이용한 특성 분석 결과 보고서
1. 실험방법 ◉ 기판 세정 ① 준비된 glass를 2×2 cm2 크기로 자른 뒤, boat에 담는다. ② TCE, Acetone, Methanol, DI Water 순으로 각각 10분씩 초음파 세척을 한다. ③ 세척 후 N2 기체로 blow drying 한다. ④.. -
박막재료의 제작과 평가
박막재료의 제작과 평가 목차 ° 실험 목적 ° 실험 관련 이론 ° 실험 방법 ° 실험 결과 ° 결과에 대한 고찰 1. 실험 목적 ITO에 대한 기본적인 이론을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 특성 .. -
[소재공정실험] 박막공학 - PVD 와 CVD에 관해
소재공정실험 구 성 2/16 Thin Film Application Thin Film 부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다. 막박 Physical Vapor Deposition 진공 중에서 금속을 기화시켜 기판에 증착. vapo.. -
표면공학 [PVD]에 대해서
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된.. -
금속과 표면공학 - PVD에 대해서
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된.. -
OLED의 이해 및 제조공정 분석
디스플레이 공학 복습OLED OLED의 전반적인 이해 EL (Electroluminescence) 형광체에 전류를 흘려주었을 시에 발광하는재료의 전기 발광 현상 발광 층에서 전자와 정공은 재결합에 의해 여기자(Exciton)가 생성.. -
OLED의 이해 및 제조공정 분석
디스플레이 공학 복습OLED OLED의 전반적인 이해 EL (Electroluminescence) 형광체에 전류를 흘려주었을 시에 발광하는재료의 전기 발광 현상 발광 층에서 전자와 정공은 재결합에 의해 여기자(Exciton)가 생성.. -
스퍼터와 포포인트프로브에 관해서
1. 스퍼터 1.1 개념 스퍼터링(Sputtering)는 집적회로 생산라인 공정에서 많이 쓰이는 진공 증착법의 일종으로 비교적 낮은 진공도에서 플라즈마를 이온화된 아르곤등의 가스를 가속하여 타겟에 충돌. 원자를 분..
