TFT-LCD 공정의 작업환경 Hazard of TFT-LCDManufacturing Process
2004. 4. 26
한 승 용
Contents
TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
LC(Liquid Crystal)
Manufacturing Process
TFT Process
Cell Process
Module Process
Hazards
MSDS ..
thin film[박막]에 대한 정의와 제조방법 정리 1. What is a thin film
thin film(박막)이란
박막은 나노미터에서 마이크로미터 두께까지의 범위를 포함하는 얇은 물질 층이라고 할 수 있다. 전자기적 반도체 장치와 광학적 코팅은 박막기술의 주된 적용 범위..
실험보고서 - 발광박막제조 및 PL분광법을 이용한 특성 분석 결과 보고서 1. 실험방법
◉ 기판 세정
① 준비된 glass를 2×2 cm2 크기로 자른 뒤, boat에 담는다.
② TCE, Acetone, Methanol, DI Water 순으로 각각 10분씩 초음파 세척을 한다.
③ 세척 후 N2 기체로 blow drying 한다.
④..
박막재료의 제작과 평가 박막재료의 제작과 평가
목차
° 실험 목적
° 실험 관련 이론
° 실험 방법
° 실험 결과
° 결과에 대한 고찰
1. 실험 목적
ITO에 대한 기본적인 이론을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 특성 ..
[소재공정실험] 박막공학 - PVD 와 CVD에 관해 소재공정실험
구 성
2/16
Thin Film Application
Thin Film
부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다.
막박
Physical Vapor Deposition
진공 중에서 금속을 기화시켜 기판에 증착.
vapo..
표면공학 [PVD]에 대해서 목 차
1. 서론
2. PVD법
2.1 PVD 란
2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
3.4.1 강화된..
금속과 표면공학 - PVD에 대해서 목 차
1. 서론
2. PVD법
2.1 PVD 란
2.1 PVD 원리
2.3 PVD 개요
2.4 PVD 영상
2.5 PVD 장·단점
3. PVD 종류
3.1 PVD 종류
3.2 증발 (아크증발법)
3.3 이온도금 (이온주입법)
3.4 스퍼터링
3.4.1 강화된..