동진쎄미켐 디스플레이 공정 소개 개발_Etchant 개발 자기소개서와 면접자료서식 > 자기소개서 7페이지 
학부 2학년 때 '화학공정실험Ⅰ' 과목에서 금속박막식 각 실험을 수행하며 Etchant의 조성 변화가 식각 속도와 균일성에 미치는 영향을 연구했습니다.
그 경험을 통해 공정조건 하나하나가 품질에 미치는 영향을 체..
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학부 2학년 때 '화학공정실험Ⅰ' 과목에서 금속박막식 각 실험을 수행하며 Etchant의 조성 변화가 식각 속도와 균일성에 미치는 영향을 연구했습니다.
그 경험을 통해 공정조건 하나하나가 품질에 미치는 영향을 체..
서식 > 자기소개서 5페이지 
디스플레이 공정에서 Etchant(식각액) 개발은 미세한 패턴 형성과 공정안정성을 동시에 달성해야 하는 고난도의 기술입니다.
저는 이러한 영역에서 실험적 데이터 분석 능력과 공정변수 최적화 경험을 바탕으로, ..
리포트 > 공학/기술 4페이지 
1.실험제목 : Photolithography를 이용한 pattern형성
2.실험목적 : Photolithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정시 주의점을 알 수 있다.
3.실험기구, 장비, 재료 :
-Cr 증착된 기판
-Developer, Stripper..
리포트 > 자연과학 9페이지 
금속의 미세조직 관찰
1. 실험 목적
- 금속학적 원리를 기술 분야에 적용하려면 금속조직을 검사하는 방법을 알아서 제조 과정에서 일어나는 조직의 변화와 그 재료의 조직과 성질과의 상호관계를 연구하여야 한..
반도체공정 실험 - Cleaning Oxidation리포트 > 공학/기술 5페이지 
실험 1 : Cleaning Oxidation
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 Wafer cleaning Oxidation 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide ..
