반도체 - 반도체 전前공정 및 CVD 공정리포트 > 공학/기술 7페이지 
반도체 전前공정 및 CVD 공정
반도체 전前공정요약
웨이퍼제조공정
12
웨이퍼8대가공공정
1.산화
2.감광액
5.식각
3.노광
6.이온주입
4.현상
8.금속배선
7.화학기상증착
CVD
....
반도체공정 실험 - Dry etching리포트 > 공학/기술 7페이지
실험: Dry etching
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Photolithography 공정을 실시한 후 Si기판을
플라즈마를 이용하여 식각하는 공정인 Dry etching 을 실시하며 FE-SEM을 이용하여
SiO2 inspe..
공정설계 합격 자기소개서 (4)서식 > 자기소개서 3페이지 
저는 Depos ition공정기술과 소재기술의 개발을 위해 삼성전자 DS부문 생산기술연구소에 지원하였습니다.
이러한 공정기술의 발전은 미세 패턴의 구현을 이끌 것입니다.
삼성 속에서 반도체 기술을 선도하는 가치 ..
반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계리포트 > 공학/기술 11페이지 
반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계
목 차
1. 단결정 성장
2. 규소봉 절단
3. Wafer 표면 연마
4. 회로 설계
5. Mask 제작
6. 산화공정
7. 감광액 도포
8. 노광공정
9. 현상공정
10. 식각공정
11. 이온주입공..
리포트 > 공학/기술 50페이지 
Hazard of TFT-LCDManufacturing Process
2004. 4. 26
한 승 용
Contents
TFT-LCD(Thin Film Transistor LCD)
LC(Liquid Crystal)
Manufacturing Process
TFT Process
Cell Process
Module Process
Hazards
MSDS ..
리포트 > 공학/기술 14페이지
프라즈마 공학
1. 플라즈마란 무엇인가
플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 미국의 물리학자 Langmuir (랑뮈어)로서, 전기적인 방전으로 인해 생기는 전하를 띤 양이온과 전자들의 집단을 플..
리포트 > 공학/기술 6페이지 
전기전자 - 반도체 소자의 제작공정 MEMS
목 차
#반도체 소자의 제작공정
#MEMS (micro electro mechanical systems)
반도체 소자의 제작공정
1단계 단결정 성장
고순도로 정제된 실리콘 용융액에 SEED 결정을..
서식 > 자기소개서 3페이지
대학에선 소프트웨어 언어라는 새로운 영역을 접하고 문제를 해결하며 원하는 것을 구현했을 때 느꼈던 성취 감 덕분에 해당 수업에서 교수님께 인정받고자 적극적으로 참여했고 소프트웨어 과목들에서 좋은 성적..
리포트 > 자연과학 4페이지 
산화공정
1. 실험목적
실리콘 IC 웨이퍼 제조의 기초는 웨이퍼 표면에 산화층을 열적으로 성장시키는 능력이다. 실리콘 기판 속으로 불순물을 확산시켜서 산화층을 열적으로 성장시키고 식각시키고 패턴화되는 ..
리포트 > 사회과학 16페이지 
3.26
스타일링과 사회사업
1. Style[stail]
style1 [stail] n.,v.
L 「철필(stylus)」의 뜻에서 → 「쓰기」 → 「쓰는 식」 → 「문체」 → 「양식」이 되었음.
n. 1 (물건 등의) 종류, 형, 풍채, 모양 2 (행동 등의..
서식 > 자기소개서 12페이지
자신에게 주어졌던 일 중 가장 어려웠던 경험은 무엇이었습니까?
목표 달성과정에서 아쉬웠던 점이나 그때 느꼈던 자신의 한계는 무엇이고, 이를 극복하기 위해 했던 행동과 생각, 결과에 대해 최대한 구체적으로 ..
