에너지 절감 소자로써 지금은 LED(Light Emitting Diode)라고 하여, 발광 다이오드라고도 하는 것이 각광 받고 있다. LED는 아직 여러 발전 단계에 있지만 현재에도 많은 곳에서 사용되고 있다.
우선 첫 번째로는 식물마다 자기가 좋아하는 색, 즉 파장이 있는데 그 빛을 LED는 골라서 비추어 줄 수 있어서 식물의 성장이나 열매 맺음을 빠르게 진행 시킬 수 있다. 또한 특정 파장대의 식물이 좋아하는 빛만을 골라 이들을 임의로 섞을 수도 있다. 현재까지 연구에 따르면 대체적으로 식물은 적색(660nm)과 청색(450nm)의 빛이 5:1, 7:1, 20:1 등으로 혼합된 상태에서 최적의 성장을 한다고 보고 되어있다. 이런 식물의 특성과 LED를 사용하여 요즘에는 식물 공장이라는 새로운 개념의 공장이 등장하고 있다. 식물 공장은 LED 빛을 비추어 주어 식물을 빠른 시간 안에 성장시켜 환경적으로 키운다는 점에서 매우 효과적이다.
두 번째로는 자동차에도 요즘 많이 사용되고 있다. 자동차에는 보통 등에 쓰이는데, 요즘 시대에는 친환경적인 것을 추구하는데 LED는 이러한 친환경적인 것에 많은 도움을 준다. 또한 LED를 달기 전에는 보통 할로겐, 고압방전등을 사용하였는데 LED는 이전의 것들보다 수명이 매우 길기 때문이다. 또한 전력효율이 158W정도로 연료 효율도 좋아 더 적은 전력으로 보다 밝게 비출 수 있기 때문이다. 또한 자연광과 가장 유사한 빛을 내기 때문에 눈에 피로를 덜 줄 수 있다는 점과, 환경유해물질이 전혀 사용되지도 않고 방출되지도 않기 때문이다. 그리고 LED는 크기가 작은 여러 개를 사용하기 때문에 자동차 외간을 더욱 다양한 디자인으로 만들 수 있다는 점이다.
세 번째로는 최근에 진행 중인 가로등과 간판에 LED를 사용하는 것이다. 가로등은 원래 나트륨과 같은 것에 에너지를 가하여 빛을 방출하게 하는 형식이
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반도체 - 반도체 전前공정 및 CVD 공정 반도체 전前공정 및 CVD 공정
반도체 전前공정요약
웨이퍼제조공정
12
웨이퍼8대가공공정
1.산화
2.감광액
5.식각
3.노광
6.이온주입
4.현상
8.금속배선
7.화학기상증착
CVD
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반도체공정 실험 - Photo Lithography 실험: Photo Lithography
1. 실험 목적
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 Wafer cleaning Oxidation 공정을 실시한 후
Si기판 위에 패턴을 형성하는 공정인 Photo lithography 를 실시하며 FE-SEM을 이용하여
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포토리소그래피 실험 1. 포토리소그래피(Photolithography)
ⅰ) 포토리소그래피(Photolithography)란
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반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계 반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계
목 차
1. 단결정 성장
2. 규소봉 절단
3. Wafer 표면 연마
4. 회로 설계
5. Mask 제작
6. 산화공정
7. 감광액 도포
8. 노광공정
9. 현상공정
10. 식각공정
11. 이온주입공..
삼성전자 합격 자기소개서(석사) 따라서 차세대 스마트폰의 다양한 기술개발과 소비자의 니즈 파악이 필요하다고 생각합니다.
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디지털영화의기술적변화와기술의실체및한계점 디지털 영화의 기술적 변화와 기술의 실체 및 한계점
1. 서론
개발된 지 100여 년 동안 큰 변동없이 발전해 온 영화산업은 최근 1년 동안 혁신적 디지털 기술이 속속 도입되면서 근본적인 기술적 변화를 맞고 있..
Photolithography를 이용한 pattern형성 1.실험제목 : Photolithography를 이용한 pattern형성
2.실험목적 : Photolithography에 사용하는 각 공정의 원리와 공정시 주의점을 알 수 있다.
3.실험기구, 장비, 재료 :
-Cr 증착된 기판
-Developer, Stripper..