LCD 스퍼터링[sputtering]에 관하여
LCD 스퍼터링[sputtering]에 관하여
LCD 스퍼터링(sputtering)
1. 스퍼터링의 원리
스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는
여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. 스퍼터링(sputtering)은 높은에너지(] 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다. 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다.
보통 스퍼터링에는 양의 이온이 많이 사용되는데, 그 이유는 양의 이온은 전장(electric field)을 인가해 줌으로써 가속하기가 쉽고 또한 target에 충돌하기 직전 target에서 방출되는 Auger전자에 의하여 중성화되어 중성 원자로 target에 충돌하기 때문이다.
( 1 ) 이온과 고체 표면과의 반응 이온이 고체 표면에 충돌할 경우 다음과 같은 현상이 일어난다.
① 이온 반사
이온이 고체 표면에 충돌하여 중성화(neutr alization)된 후, 반사(reflection)되는 경우다. 이러한 Ion Scattering Spectroscopy에 이용된다. Ion Scattering Spectroscopy는 표면층에 대한 정보 및 이온과 표면간의 상호 작용에 관한 많은 정보를 제공한다.
② 전자 방출
이온의 충돌로 인하여 고체의 표면에서 전자가 방출되는 경우이며, 이런 전자를 2차 전자(secondary electron)이라고 한다.
③ 이온 주입
....
1. 스퍼터링의 원리
스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는
여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. 스퍼터링(sputtering)은 높은에너지(] 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다. 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다.
보통 스퍼터링에는 양의 이온이 많이 사용되는데, 그 이유는 양의 이온은 전장(electric field)을 인가해 줌으로써 가속하기가 쉽고 또한 target에 충돌하기 직전 target에서 방출되는 Auger전자에 의하여 중성화되어 중성 원자로 target에 충돌하기 때문이다.
( 1 ) 이온과 고체 표면과의 반응 이온이 고체 표면에 충돌할 경우 다음과 같은 현상이 일어난다.
① 이온 반사
이온이 고체 표면에 충돌하여 중성화(neutr alization)된 후, 반사(reflection)되는 경우다. 이러한 Ion Scattering Spectroscopy에 이용된다. Ion Scattering Spectroscopy는 표면층에 대한 정보 및 이온과 표면간의 상호 작용에 관한 많은 정보를 제공한다.
② 전자 방출
이온의 충돌로 인하여 고체의 표면에서 전자가 방출되는 경우이며, 이런 전자를 2차 전자(secondary electron)이라고 한다.
③ 이온 주입
....
-
공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)]
공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)] 목 차 1.플라즈마란 2.ICP , CCP 3.스퍼터링 (sputtering) 참고문헌 1.플라즈마란 [그림 1] 플라즈마 1)정의 및 특징 “이온화한 기체”를 .. -
스퍼터와 포포인트프로브에 관해서
1. 스퍼터 1.1 개념 스퍼터링(Sputtering)는 집적회로 생산라인 공정에서 많이 쓰이는 진공 증착법의 일종으로 비교적 낮은 진공도에서 플라즈마를 이온화된 아르곤등의 가스를 가속하여 타겟에 충돌. 원자를 분.. -
박막재료의 제작과 평가
박막재료의 제작과 평가 목차 ° 실험 목적 ° 실험 관련 이론 ° 실험 방법 ° 실험 결과 ° 결과에 대한 고찰 1. 실험 목적 ITO에 대한 기본적인 이론을 숙지하고, 직접 제작을 통해 제작 과정과 막 특성 .. -
[신소재공학] Sputtering을 이용한 Ti 증착(요소설계) - 반도체 형성 원리에 대해
Sputtering을 이용한 Ti 증착 목차 실험 목적 실험 이론 실험 방법 결과 및 토의 1. 실험 목적 Working pressure를 변화 시킬 때 두께와 저항의 변화를 그래프를 이용해 분석하여 Working pressure와 두께, 저.. -
표면공학 [PVD]에 대해서
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된.. -
금속과 표면공학 - PVD에 대해서
목 차 1. 서론 2. PVD법 2.1 PVD 란 2.1 PVD 원리 2.3 PVD 개요 2.4 PVD 영상 2.5 PVD 장·단점 3. PVD 종류 3.1 PVD 종류 3.2 증발 (아크증발법) 3.3 이온도금 (이온주입법) 3.4 스퍼터링 3.4.1 강화된.. -
LCD 제어 분석
LCD 제어 목차 LCD 모듈 LCD 모듈의 내부 구성 LCD 명령어 LCD 초기화 LCD 모듈 프로그래밍 LCD 모듈에 관한 예제 LCD 모듈 LCD 모듈이란 - 가정 또는 산업 현장에서 가장 많이 사용되고 있는 것으로, 표시(Dis.. -
공학 - LCD, PDP, LED, VFD 조사
공학 - LCD, PDP, LED, VFD 조사 ◆ LCD [Liquid Crystal Display] ① 소개 LCD는 [Liquid Crystal Display]의 준말이며 1888년 오스트리아의 F. Reinitzer에 의해 처음 발견된 액정이다. 1968년 미국 RCA사에 .. -
국내 TFT-LCD의 시장현황[2005년까지:PDF]
본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 국내 TFT-LCD에 대한 시장현황 정보입니다. 작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다. 본 컨텐츠에서는 국내 2.. -
국내 LCD TV의 시장현황[2005년까지:PDF]
본 컨텐츠는 시장조사, 수요예측 전문업체인 ㈜밸류애드에서 국내 LCD TV에 대한 시장현황 정보입니다. 작성일자를 반드시 확인하시고, 최근에 작성된 정보를 구매하시기 바랍니다. 본 컨텐츠에서는 국내 20..
