반도체 제조공정

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• 2002.02.18
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1. 반도체제조공정.doc
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• 반도체의원리
  
• 전해연마
  
• 반도체에 대하여
  
• 반도체공정이론
  
• 반도체 - 반도체 전前공정 및 CVD 공정
  반도체 전前공정 및 CVD 공정 반도체 전前공정요약 웨이퍼제조공정 12 웨이퍼8대가공공정 1.산화 2.감광액 5.식각 3.노광 6.이온주입 4.현상 8.금속배선 7.화학기상증착 CVD ....
• 반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계
  반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계 목 차 1. 단결정 성장 2. 규소봉 절단 3. Wafer 표면 연마 4. 회로 설계 5. Mask 제작 6. 산화공정 7. 감광액 도포 8. 노광공정 9. 현상공정 10. 식각공정 11. 이온주입공..
• 그래핀 제조 및 응용 사례 연구
  [반도체화학공정 ] 그래핀 제조 및 응용 사례 연구 목 차 1. 서 론 ... 1 2. 그래핀의 정의 및 성질 ... 1 2.1 그래핀의 정의 ... 1 2.2 그래핀의 성질 ... 2 3. 그래핀의 제법 ... 2 3.1 Scotch tape met..
• 반도체 생산공정[ 전기 전자공학]ppt
  반도체 생산공정 삼성전자가 연결기준으로 지난해 사상 최대 매출을 달성했다. 삼성전자는 29일 지난해 연간 실적 및 4.4분기 실적 발표에서 매출액 136조2900억원, 영업익 10조9200억원을 기록했다고 밝혔다. 이..
• [신소재 기초실험] 산화공정
  제목 : 산화 공정 (Oxidation) 목적 : 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다. 실리콘 산화..
• 산화공정 실험보고서
  산화공정 1. 실험목적 실리콘 IC 웨이퍼 제조의 기초는 웨이퍼 표면에 산화층을 열적으로 성장시키는 능력이다. 실리콘 기판 속으로 불순물을 확산시켜서 산화층을 열적으로 성장시키고 식각시키고 패턴화되는 ..

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