이론적배경:
①에칭
화학약품을 사용하여 금속, 세라믹스, 반도체 등의 표면을 부식시키는 것. 부식이라고도 한다. 표면 연마와 반도체의 정밀가공, 인쇄제판 공정 등에서 재료를 패턴상으로 부식시키기 위해서 한다. 최근 반도체 공업에서는 에칭액을 사용하지 않는 드라이 에칭이 많이 사용되고 있다.
동의어 부식
화학적으로 접촉되는 부분을 녹여서 제거하는 공정. 에칭에는 용액을 사용하는 습식(wet etching)과 반응성 기체(reactive gas)를 사용하는 건식 (dry etching) 이 있다. 최근에는 주로 건식을 사용하는데 이는 에칭된 결과가 아주 정밀하며 에칭 후에 표면이 비교적 깨끗하기 때문이다.
Dry etching 의 원리 전체적인 과정
먼저 에칭에 쓸 염소분자를 chamber에서 플라스마 상태로 만든 다음 가속을 시켜서 wafer 표면에 접촉하게 한다. wafer 표면에는 이미 etching 시킬부분만 노출되고 다른 부위는 가려진 상태로 되어서 접촉된 부위의 표면에서 염소gas와의 반응으로 etching 이루어 진다. 이때 염소 gas와 결합된 물질은 기체상태로서 별도의 제거 작업이 필요 없다.
②광학현미경
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재료공학 기초 실험 - 광학현미경 조직검사 및 시편준비 재료공학 기초 실험 - 광학현미경 조직검사 및 시편준비
목 차
1. etching이란 무엇인가
2. 광학현미경의 이론
3. 실험결과
4. 토의사항 및 문제
5. 논의 및 고찰
6.참고 문헌
1. etching이란 무엇인가
Etchin..
재료공학 기초실험 - 광학현미경 조직검사 실험 [재료공학기초실험보고서]
- 광학현미경 조직검사 실험
◎이론적 배경
- Etching : 화학약품을 사용하여 금속, 세라믹스, 반도체 등의 표면을 부식시키는 것. 부식 이라고도 한다. 표면 연마와 반도체의 정밀가..
[재료시험] 금속조직 관찰 실험 결과 보고서 Ⅰ. 서론
1. 금속 표면 조직관찰의 목적
금속학적 원리를 기술 분야에 적용하려면 금속조직을 검사하는 방법을 알아서 제조과정에서 일어나는 조직의 변화와 그 재료의 조직과 성질과의 상호관계를 연구하여야 ..
[재료시험] 금속조직 관찰 실험 Ⅰ. 서론
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[재료기초실험]마그네슘, 중탄소강 미세조직관찰실험 재 료 기 초 실 험
(미세 조직 검사)
■ 본 실험의 목적
본 실험의 목적은 금속시편을 준비하여 조직 관찰할 면을 균일하게 경면 가공한 뒤 에칭을 통해 미세한 조직을 검사함으로써 그 곳에 나타나는 상, 결정립..
실험 보고서 - 미세조직 시험 1. 실험 목적
금속재료의 재질은 합금의 종류와 제조공정에 따라 결정되는데 금속조직시험은 이러한 재료의 이력을 알아내는데 필수 불가결한 사항이다.
본 실험의 목적은 기본적인 열처리에 의한 미세조직의 변..
금속의 미세조직 관찰 금속의 미세조직 관찰
1. 실험 목적
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실험보고서 - co2 용접법을 이용한 시편의 제작 및 시편의 조직관찰 실험보고서 - co2 용접법을 이용한 시편의 제작 및 시편의 조직관찰
목 차
Ⅰ. 실험제목
Ⅱ. 실험목적
Ⅲ. 원리 및 이론
Ⅳ. 실험내용(실험장치, 실험방법)
Ⅴ. 실험결과
Ⅵ. 고찰
Ⅰ. 실험제목
co2용접법을 이용한 시..