2025 SK머티리얼즈 반도체 ALD.CVD용 Precursor 개발 직무 면접질문답변, 1분 스피치, 면접기출, 면접족보

1. 2025 SK머티리얼즈 반도체 ALD.CVD용 P.hwp
2. 2025 SK머티리얼즈 반도체 ALD.CVD용 P.pdf
답변 : SK머티리얼즈는 반도체 공정용 고순도 가스·소재 분야에서 세계적 경쟁력을 갖춘 기업으로, 특히 ALD/CVD용 Precursor분야에서 독자적인 기술을 확보하고 있습니다.
이 경험을 기반으로 SK머티리얼즈에서 차세대 Precursor를 개발하고, K-소재 기술자립에 기여하고자 지원했습니다.
본인이 SK머티리얼즈의 Precursor개발에 기여할 수 있는 강점은 무엇입니까?
답변 : 데이터의 신뢰성입니다.
특히 SK머티리얼즈는 '친환경 불소계 Precursor' 개발과 '반응 부산물 저감기술'을 선도하고 있어, 글로벌 반도체 공정 변화에 적극 대응하고 있습니다.
답변 : 단순한 Precursor합성이 아니라, 공정과 연계된 TotalSolution개발입니다.
답변 : 연구개발은 '과정의 축적산업'입니다.
저는 대학원에서 유기금속화합물의 합성과 열적 안정성 개선을 연구하며, ALD 공정의 핵심인 전구체의 반응 메커니즘을 실험적으로 규명했습니다.
2025SK 머티리얼즈 반도체 ALD.CVD용 Precursor개발 직무면접 질문 답변, 1분 스피치, 면접기출, 면접족보
지 원동기 및 회사 이해 관련 질문
직무 전문성 및 기술이해 관련 질문
협업 및 커뮤니케이션 관련 질문
성장 가능성과 포부 관련 질문
이러한 경험은 Precursor의 휘발성, 열 안정성, 반응 부산물 제어 등 핵심 이슈 해결에 직접적으로 적용 가능합니다.
답변 : CVD(ChemicalVaporDepos ition)는 기체 반응 물들이 동시에 반응하여 막을 형성하는 반면, ALD(AtomicLayerDepos ition)는 반응물이 순차적으로 표면에 흡착하고 반응하여 한 층씩 성장시키는 방식입니다.
ALD는 원자단위의 두께 제어와 높은 균일성을 제공하지만, Precursor의 반응성·흡착 특성이 공정성능을 결정짓습니다.
예를 들어, Al, Ti, Hf 등 금속 중심의 전자구조가 리간드와의 결합 강도, 분해온도, 휘발성에 직접 영향을 줍니다.
답변 : 일반적으로 휘발성이 높을수록 반응성도 높지만, 지나치게 반응성이 높으면 표면에서 self-lim iting특성이 깨져 비균일증착이 발생합니다.
따라서 열적 안정성과 반응성을 균형 있게 설계해야 합니다.
타 부서(공정팀, 분석팀 등 와 협업 시 가장 중요하다고 생각하는 점은 무엇입니까?
답변 : 전문 영역의 언어 차이를 줄이는 '소통의 명확성'입니다.
연구 데이터를 시각화해 설명하거나, 실험 결과를 공정 조건과 연결해 논리적으로 전달하는 것이 협업의 효율성을 높입니다.
답변 : 단순한 Precursor합성이 아니라, 공정과 연계된 TotalSolution개발입니다.
답변 : 반도체 소재 개발의 '플랫폼형 연구자'가 되고 싶습니다.
실패를 데이터로 축적하면, 결국 최적 조건에 가까워집니다.
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